과제명 : 이온빔 가공기술

분석구분

기술동향분석

과제수행자

이*호

분석일

2011-11-17 10:38:39.0

기술산업분류

일반기계

작성기관

한국과학기술정보연구원

키워드

이온빔     

과학기술표준분류

기계

내용

이온빔 가공 기술 큰 에너지를 갖고 있는 이온빔이 부품 표면에 투사 되면서 표면의 기존 원자들을 튕겨 보내고 표면을 깎아내는 이온빔 밀링과 머시닝의 가공법이 있는가 하면, 투사되는 이온빔이 표면을 뚫고 들어가는 이온빔 주입과 부품 표면에 증착되는 이온빔 증착, 다른 방법과 동반 수행되는 이온빔 보조 증착의 가공 기술이 있다.

그 중에 표면제거를 목적으로 하는 가공 기술은 주로 갈륨 이온을 이용한 집속 이온빔을 형성하여, 재료의 현미경적 시편 가공을 시작으로 발달하기 시작하였다. 현재는 이러한 밀링 기술은 규칙적인 피트 어레이 생산 등에 사용하여 고밀도 집적 회로, 웨이퍼 등 반도체 분야를 필두로 감쇄기 유전체, RF와 마이크로 서키트의 박판 필름 등 우주, 통신 분야부품에 이르기까지 용도가 다양하다.

이온빔 머시닝은 3차원적인 가공에 사용되어 마이크로렌즈 가공 등 광학 분야에, 이온빔 주입은 재질 표면의 개질에 즉 전기적 기계적 성질의 개량을 위하여 사용되고 있다. 이온빔 증착은 주로 재료의 코팅에 사용되고 있다. 이 코팅도 재료의 표면 특성을 변화시키는 목적과 광학 적으로 반사를 없애는 목적의 두 부류로 나누어 볼 수 있다.

기술에 대한 연구 개발 논문을 보면 증착형(이온빔 주입 포함) 기술 논문이 어블레이션형 가공기술 논문보다 1.5배 이상 많아 이 분야에 관심이 상대적으로 큰 것을 알 수 있다.

분석물

이미지변환중입니다.

등록된 분석물이 없습니다.