과제명 : 양자 Dot Epitaxy

분석구분

기술동향분석

과제수행자

박*학

분석일

2004-01-08 12:00:00.0

기술산업분류

재료

작성기관

한국과학기술정보연구원

키워드

quantum dot  quabtum line  epitaxy

과학기술표준분류

재료

내용

전자의 이동을 다양하게 하는 양자우물, 양자세선, 양자 Dot를 작성하는 최근의 기술 현황을 언급하였다. 제조방법에는 선택성장을 하는 방법, 가공기판을 이용하는 방법, Self-Assemble방법을 기술하였고, 이 분야의 최근의 연구 방향을 살펴보았다. 그리고 양자 Dot를 작성하는 반도체재료에 대하여 최근 2~3년 간의 국내외 특허 현황, Wafer 또는 Epitaxial Dot의 제조 Maker를 조사하여 수록하였다.

분석물

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