불소화 계면활성제

전문가 제언

○ 불소화 계면활성제는 반도체 디바이스, 디스플레이 디바이스, 메디컬 디바이스 및 옵티컬 디바이스 등 디바이스를 제조할 경우의 연마공정 등에서 기판 상에 생긴 무기물로 된 미소 오염물질을 제거하기 위한 세정액으로 사용되고 있다.

 

○ IC나 LSI 등 반도체 디바이스, 디스플레이 디바이스, 메디컬 디바이스 등 디바이스의 제조에 있어서 실리콘 웨이퍼나 글라스 등의 기판을 평탄화하기 위해 연마제를 이용하는 연마공정이 있다. 이 공정에서는 기판 유래나 연마제 유래의 무기물을 주성분으로 하는 미소 오염물질(입자)이 잔사로서 기판 상에 생긴다. 이러한 미소 오염물질의 존재는 디바이스 성능에 큰 영향을 미치기 때문에 각 제조공정에서 세정액에 의해 제거하고 있다.

 

○ 이 발명의 조성물은 불소화 또는 과불소화 유기용매 및 불소화 계면활성제를 포함하며, 물체로부터 오염물질을 제거하는 방법에 관한 것으로서 1차 유기용매와 하나 이상의 공용매를 포함한다. 1차 유기용매는 불소화 또는 과불소화 유기용매를 포함하며, 불소화 또는 과불소화 1차 유기용매로는 히드로플루오로에테르, 히드로플루오로카본, 히드로플루오로올레핀, 히드로클로로플루오로올레핀, 플루오로케톤, 퍼플루오로케톤 등이 사용된다.

 

○ 불소화 계면활성제에 관한 특허출원 동향을 보면 일본의 미쓰비시 머티리얼(주), DIC, 미국의 3M Innovative Properties Co. 가 출원을 하고 있으나 3M Innovative Properties Co.가 불소화 계면활성제에 대한 특허를 가장 많이 출원하고 있다.

 

○ 본 발명과 유사한 특허는 많이 출원되어 있으나 청구범위가 유사한 특허가 우리나라에 출원되었는지 여부는 아직 알 수 없으나 출원하지 않았을 가능성이 많을 것으로 생각된다. 그러나 이 특허를 이용할 경우에는 조성물 등을 달리하여 특허침해를 회피해 나갈 필요가 있다.

저자

3M Innovative properties Co.

자료유형

니즈특허정보

원문언어

영어

기업산업분류

화학·화공

연도

2016

권(호)

WO20160040551

잡지명

PCT특허

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

~32

분석자

서*석

분석물

• 불소화 계면활성제.pdf [443,476 byte]

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