열 나노 임프린트에 의한 동 패턴의 형성

전문가 제언

○ 나노 임프린트 기술은 광도파로나 도광판 등의 광소자, 자기기록소자에 주로 사용된다. 열 나노 임프린트법은 전자 재료인 열가소성 물질을 유리전이온도 이상으로 승온하여 압형하고 냉각하는 기술로서 열에 의한 패턴의 위치나 선폭의 정밀도 확보나 시간이 많이 소요되는 단점이 있다. 한편, 광 나노 임프린트법은 자외선 경화잉크를 사용하기 때문에 신속히 건조할 수 있는 장점은 있으나 전사재료가 수축되는 문제점이 있는 것으로 알려졌다.

 

○ 2014년 일본의 Shinji Matsui는 나노 임프린트법에 관한 연구결과를 전자정보통신학회에 발표하였다. 2013년 일본 전자정보기술 산업협회에서도 인쇄 배선판의 실장기술 Road Map을 출판하였고 2014년 K. Miyama도 수㎛ 수준의 리소그래피에 의한 미세한 인쇄배선 형성기법을 보고하였다. 이러한 연구결과 최근 고주파 정보단말기에 빅데이터를 고속으로 전송할 수 있는 계기를 마련하게 되었다.

 

○ 2006년 Hitachi사는 나노미터 수준의 탄소미립자를 혼합한 전도성 유기재료를 사용하여 임프린트법에 의해 액츄에이터를 시험 제조하였다. 임프린트은 저비용으로 대량생산할 수 있는 가능성을 제시해 준 것으로 알려졌다. 또한 대기분위기의 저전압에서 작동이 가능하고, 생체친화성이 좋기 때문에 인공근육 등 수면연장을 위한 의료용으로 기대된다. 직경 40nm의 카본블랙(Carbon black)계 미립자를 불소계 고분자에 혼합한 것이다. 불소계를 선택한 것은 열팽창계수가 높기 때문이고, 그 외 에폭시계도 검토되고 있다. 재료를 용매에서 녹여서 잉크화하고, 폴리이미드(Polyimide) 필름 기판 상에 스크린 인쇄한다.

 

○ 1995년 반월공단의 진세정밀 사는 카본블랙 인쇄법으로 전도성 패턴을 인쇄기판에 형성하여 대량생산에는 성공하였지만 동의 물성과 비교해 볼 때 탄소는 연신율이 낮아 열충격에 균열이 가는 품질불량을 초래했다. 이 결과 다시 습식에 의한 다이렉트 동도금으로 전환하기도 했었다. 2000년 인천의 ㈜하이텍 사는 이러한 연신율의 문제점을 보완하고자 다이렉트 동도금을 개발하여 인쇄회로기판의 도금 신뢰성을 향상시킬 수 있었다.

저자

Takayuki SAITOU, et al.

자료유형

니즈학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2015

권(호)

66(9)

잡지명

表面技術

과학기술
표준분류

재료

페이지

425~430

분석자

김*상

분석물

• 열 나노 임프린트에 의한 동 패턴의 형성.pdf [585,492 byte]

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