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Al도핑 ZnO의 전기도금 기술

전문가 제언

최근 산화아연(ZnO)는 과학계에 미래 유망재료로서 상당한 주목을 받고 있는데, ZnO 막(film)은 고온 전기소자, 투명전극, 압전변환기, 가스센서, 액상 결정 디스플레이, 발광 다이오드, 레이저 다이오드, 자외선범위 측정용 디바이스, 태양전지 등 여러 용도로 적용분야를 넓혀가고 있다.

 

Al도핑 ZnO박막은 화학적 스프레이법, 펄스레이저전착법, 졸-겔 침지코팅, 반응성 DC(Direct Current)와 RF스퍼터링 및 전기화학적 전착법과 같은 여러 가지 공정에 의해서 합성된다. 국내에서는 주로 RF 마그네트론 스퍼터링에 의한 연구가 진행되어 왔다. 그러나 전기화학적 전착법은 단순성과 큰 면적의 태양전지에 대한 적용이 용이하다는 장점이 있기 때문에 향후 전기화학적 전착법에 대한 연구성과가 기대된다.

 

도핑된 ZnO 박막도금에 대한 우수한 품질과 재생산성 기술을 확립하기 위해서는 용액의 pH와 온도에 대한 정확성이 큰 영향을 미치지만, 이외에도 전극의 위치와 교반조건을 엄격한 조건으로 제어해야 한다.

 

ZnO막의 구조적, 전기적, 광학적 성질은 어느 정도 광범위하게 조사되었으나 이러한 성질을 더욱 향상시킬 수 있는 도핑효과에 대한 연구에 최근 관심이 집중되고 있다. 일례로 국내에서는 2014년 전북대학교에서 RF 마그네트론 스퍼터링에 의한 Al-Doped ZnO 박막의 제조기술에 대한 연구실적이 있다. 향후 국내관련 기업체에서도 넓은 면적에의 적용이 가능한 전기도금법에 의한 Al도핑 ZnO 박막의 제조기술에 대한 연구개발이 기대된다.

 

ZnO는 F, Cu, Ag, Ag, Al, In, Ga 등과 같은 넓은 범위의 원소들과 도핑할 수 있지만, 지금까지 연구의 많은 부분이 In 혹은 Ga의 도핑연구에 성과를 거두고 있다. 만약에 전기도금 기술만 확립된다면 값싸고 풍부하고 독성이 없는 물질인 알루미늄이 이상적인 후보물질이 될 수 있을 것이기 때문에 국내관련 기업체에서의 ZnO에 대한 알루미늄도핑 기술개발이 향후 대단히 중요한 과제가 될 수 있을 것이다.

저자
Ahmed El HICHOU, Sebastien Diliberto, Nicolas Stein
자료유형
니즈학술정보
원문언어
영어
기업산업분류
재료
연도
2015
권(호)
270()
잡지명
Surface and Coatings Technology
과학기술
표준분류
재료
페이지
236~242
분석자
유*천
분석물
담당부서 담당자 연락처
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