포토마스크 세정용 불소계 계면활성제

전문가 제언

○ 본 특허공개는 최소 선-간격 치수가 60 nm 이하인 패턴으로 구성되는 반도체 기판 제조를 위한 포토마스크(20 nm 기술노드 반도체 제조를 위한 포토마스크 패턴)의 세정을 위한 짧은 과불화 작용기(perfluorinated group)가 적어도 3개 이상인 계면활성제의 사용에 관한 것이다.

 

○ 청구사항은 위 계면활성제의 사용과 이를 사용하는 포토마스크 제조공정 및 포토리소그래프 공정으로 집약된다. 흔히 청구사항으로 포함되는 발명품의 조성과 제조방법은 청구하지 않은 점이 주목된다.

 

○ 출원인은 50 nm급 IC 제조를 위한 세정용액으로 본 발명과 동일한 계면활성제의 사용에 대해 출원하였으나(EP2479616; 2012.07.25) 철회한 것으로 보인다고 유럽특허청에 기술되어 있다. 그러나 같은 내용의 국제특허출원(WO 2012/101545; 2012.08.02.)은 진행 중인 것으로 보인다. 이런 경우에 본 특허기술의 신규성을 어떻게 심사할 것인지는 심사결과를 지켜볼 일이다.

 

○ 본 특허출원의 청구범위는 아주 광범위하여 일단 등록이 된다면, 유사한 세정기술을 사용 시 분쟁이 날 소지가 크다 하겠다. 특허분쟁은 예방이 우선이므로 연구자가 해야 할 일은 R&D 추진 시 철저한 선행기술을 조사하여 분쟁을 회피해야 한다. 또 특허맵을 활용하여 특허정보를 체계적으로 분석하고 연구개발 방향 설정, 개발장애요인 파악, 설계변경의 기준 등으로 활용해야 한다. 또 재심사/재발행 특허는 분쟁위험을 안고 있는 것이므로 지속적으로 관찰하여야 한다. 한국전자산업진흥회에서 발행한 국제특허분쟁대응 표준 매뉴얼을 참고할 수 있다.

 

○ 어느 제조공정에서도 비슷하지만, 특히 반도체 제조공정에서는 기존의 원료와 부자재를 변경하는 것은 실적으로 입증되지 않으면 변경하기가 매우 어려울 것이다. 잘못 되는 경우의 위험부담이 너무 크기 때문이다. 수입되는 계면활성제를 국산화하기 위해서는 철저한 사업전략과 품질우위를 가져야 할 것이다.

저자

BASF(CHINA) COMPANY LIMITED

자료유형

니즈특허정보

원문언어

영어

기업산업분류

화학·화공

연도

2015

권(호)

WO20150004596

잡지명

PCT

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

~21

분석자

이*용

분석물

• 포토마스크 세정용 불소계 계면활성제.pdf [325,761 byte]

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