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Ni를 전기도금한 AZ91 Mg합금의 미세조직과 부식특성

전문가 제언

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Mg는 우리가 흔히 사용하는 금속(Al, Ti, Al, Zn, Cr, Fe 및 Cu)들과 비교하여 부식성의 척도인 표준전극전위가 -2.37V로 매우 낮은 활성금속이기 때문에 다른 금속과 접촉한 상태에서는 양극성을 가져서 희생양극이 되어 쉽게 부식되며 공기 중 또는 염분의 수용액 내에서도 단독으로 부식이 잘 되어 사용상 문제가 있다.

 

경량 구조용 금속재료로 각광을 받는 Mg의 내식성을 강화하기 위한 초치로 Cu 또는 Ni등을 전기 도금한다. 이 경우 Mg합금표면에 생성되어 있는 산화물/수화물이 Cu또는 Ni코팅 시 접착과 균일성을 크게 저해한다. Mg합금에 Ni를 무전해와 전기도금 시 코팅의 효율을 높이기 위한 노력의 일환으로 많은 연구가 시도되고 있다.

 

MgO 또는 Mg(OH)2필름이 표면에 존재하면 접착력이 우수하고 균일한 전착 층이 얻어지기 어렵다. 고로 적절한 전처리가 우수한 전착을 위하여 필수적이다. 전처리중 하나인 적정한 바탕 층 코팅이 전착 층의 접착, 부식 및 기타특성유지에 중요한 요인이다. 이 바탕 층의 기공은 전착 층의 기공을 조장하여 부식시작의 원점이 된다. 이를 방지하기 위한 주요 전처리로 아연침지공정과 무전해 Ni도금이 사용되고 있다.

 

전처리용액의 조성이 도금 층의 접착에 중요한 영향을 준다는 문헌보고에 의하면 K4P2O7 또는 KMnO4 용액으로 Mg합금 기판을 산세활성화 시키면 Ni 또는 Cu전기도금을 위한 우수한 중간층이 형성된다고 한다. 또 AZ31에 친환경적으로 Cu를 전기도금 할 수 있는 방안에 의하면 정전기법 에칭을 한 후 Cu를 전기도금하면 Ni전기도금의 유용한 중간층이 형성되어 결국 Cu/Ni의 우수한 보호 코팅이 된다고 한다.

 

이 분야와 관련된 국내 연구는 아직 활성화 되고 있지 않으나 2011년, 부산대학과 생기원이 공동으로 파이로 인산염 전해액내에서 Ni전기 도금연구를 수행 한 바 있다. 또, 이 연구팀은 2010년 Cu전기 도금 연구도 시행하였다. 1999년에는 성균관대학의 연구팀도 아연치환 도금방법을 이용하여 Mg표면내식성 개선 연구를 시행 한 바 있으나 최근에 보고된 연구결과는 없다. 이 분야 국내 연구 활성화가 필요하다.

저자
Arman Zarebidaki, Hassan Mahmoudikohani, Mohammad-Reza Aboutalebi
자료유형
니즈학술정보
원문언어
영어
기업산업분류
재료
연도
2014
권(호)
615()
잡지명
Journal of Alloys and Compounds
과학기술
표준분류
재료
페이지
825~830
분석자
남*우
분석물
담당부서 담당자 연락처
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