상온 부근에서의 알루미늄 전석기술

전문가 제언

○ 일반적인 알루미늄 전석법(Electrodeposition)은 고온용융염을 사용하는 방법인데, 이때 700～1,000℃의 고온이 사용되어 알루미늄의 용융점을 초과하기 때문에 고체 알루미늄피막을 얻을 수 없고, 장시간의 전석 중에 알루미늄의 확산이 일어나 문제점이 발생할 수 있다. 이의 해결책으로 저온에서 실시하는 알루미늄 전석법이 있다.

 

○ 저온 알루미늄 전석법의 원리는 NaCl-AlCl3 용융염을 몰비로 1 : 1～2 비율로 혼합하면 120～160℃까지 융점이 강하되는 것과 같이 합금의 공정 조성이 되면 융점이 강하한다는 원리를 이용한 것이다. 여기서는 저온 알루미늄전석법의 기초와 사용하는 염의 종류에 따른 전석방법의 실제적인 방법 등을 고찰해야 한다.

 

○ 알루미늄은 환원전위가 낮기 때문에 수용액 중에서 알루미늄의 석출보다 물분해 반응이 우선적으로 일어나기 때문에 수용액 속에서 전기적으로 석출시키기가 곤란하다. 따라서 알루미늄을 전기적인 방법으로 석출시키기 위해서는 용융염이나 유기용매 등을 사용하는 비수용매법이 미국이나 일본 등에서 다양하게 시도되고 있다. 그러나 국내에서는 용융염이나 유기용매 등을 사용하는 전석법, 특히 저온 염을 사용하는 저온 전석법에 대한 연구는 드물기 때문에 향후 이에 대한 다양한 시도가 필요할 것으로 사료된다.

 

○ 알루미늄 도금을 광택처리하면 광택 크롬도금을 대체할 수 있기 때문에 6가 크롬에 의한 공해문제를 해결할 수 있는 방법이 될 수 있다. 다공질성 금속을 알루미늄 전석법으로 제조하면 대단히 큰 비표면적을 갖기 때문에 전극, 히트 쇼-크 등에 다양하게 사용될 수 있다. 다공질성 알루미늄 층을 만들어 전지의 집적체로 사용하면 고속 충전과 방전이 가능하여 전지의 성능을 향상시키는 방법으로 활용할 수 있는 등 다방면에 활용이 기대된다.

 

저자

Suguru SHIOMI, Masao MIYAKE and Tetsuji HIRATO

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2013

권(호)

63(6)

잡지명

輕金屬

과학기술
표준분류

재료

페이지

234~242

분석자

김*군

분석물

• 상온 부근에서의 알루미늄 전석기술.pdf [299,514 byte]

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