습식 코팅에 의한 CNT 투명 도전 필름

전문가 제언

액정 패널이나 유기 EL 등의 평판패널 디스플레이, 터치패널, 태양전지 등에는 투명전극 필름으로써 주로 산화인듐주석(tin-doped indium oxide, ITO) 막이 널리 사용되고 있다. ITO 막은 가시광선 투과율이 약 90%로 저항이 매우 낮은 재료이지만, 희소금속인 인듐을 사용하므로 자원 고갈이 염려된다. ITO 막은 스퍼터링법으로 제작하지만, 최근에는 ITO를 잉크화해서 도포한 후에 가열해서 도전막을 만드는 방법이 개발되었다. 인쇄로 성막하므로 비용은 저렴하나, 스퍼터링 장치로 성막한 ITO 막에 비해서 저항률이 1~2 자릿수가 높다. 또한, ITO 막은 휨에도 약한 결점이 있으므로 플렉서블 디바이스에 활용하는 데는 문제가 있다.

 

이 문제의 해결 방안으로 폴리티오펜 유도체(PEDOT)로 대표되는 도전성 고분자, 은(Ag) 나노 와이어로 대표되는 금속 나노 입자나 나노 와이어, 그래핀이나 카본 나노 튜브(CNT)로 대표되는 나노 탄소 재료가 주목받고 있다. 그러나 ITO에 필적하는 뛰어난 저항률을 안정하게 유지하는 막은 아직 얻지 못하고 있으나, 광학적으로 높은 투과율이 전망되는 나노 와이어나 CNT에 주목했다. 막 표면을 벗기지 않아도 나노 튜브끼리의 네트워크가 형성되면 높은 투과율과 높은 도전성을 만족할 수 있다. 이외에 CNT는 대기 중에서 안정하고, 뛰어난 강도와 굴곡성이 있다.

저자

Yeji KIM and Reiko AZUMI

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2013

권(호)

64(11)

잡지명

表面技術

과학기술
표준분류

재료

페이지

587~590

분석자

강*태

분석물

• 습식 코팅에 의한 CNT 투명 도전 필름.pdf [290,296 byte]

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