미립자에의 도금기술

전문가 제언

Kanto학원대학에서는 미립자 소재에의 가공에 대하여 20년 이상 전부터 주목하여 소재에의 전처리법 및 도금법의 특징인 기법을 제안하고, 일본의 미립자 도금제조에 큰 영향을 주어왔다. 미립자에의 도금기술은 전도성이 없는 기재에 금속을 무전해 도금하여 전도성을 갖는 전기적 접합용 재료로소 사용하기도 하고, 내식성이 낮은 소재에 니켈이나 금도금을 실시함으로써 내부식성의 도금입자를 가공하기 위하여 대단히 유용한 기술이다.

 

Yasushi Umeda는 현재 연구소의 연구원이지만, 그 당시는 Kanto대학의 Honma교수의 지도를 받고, 신규 도금사업을 개발한 엔지니어였다. 당시는 아직 입자도금을 대량생산하고 있는 제조사는 그다지 많지 않았고, 도금업을 주체로 하고 있는 것이 아니라 재료제조사가 도전고무나 이방성 도전필름(ACF; Anisotropic Conductive Film)의 도전시트를 제조하기 위하여 대기업 제조사가 입자도금을 하고 있었다.

 

당시는 실리카 입자에 시아놀(cyanol)기를 부여시킨 미립자에의 무전해 니켈, 금도금을 시작하였는데, 공정이 매우 번거롭고 초기에는 허황된 기술이었다. 전처리 후의 세정, 수세, 처리액 중에 소재를 넣으면 친수화하지 않고 처리액 수면에 떠오르거나 가라앉아 입자끼리 응집해 버렸다. 어떻게 하면 문제해결을 할 수 있을까에 대하여 알려져 있지 않았다. 본고에서는 일본에서의 미립자 도금의 연구개발의 진척과 미립자 도금의 용도, 소재, 도금방법, 검사 등에 관하여 기술하였다.

저자

Yasushi Umeda

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2014

권(호)

62(2)

잡지명

工業材料

과학기술
표준분류

재료

페이지

33~36

분석자

김*상

분석물

• 미립자에의 도금기술.pdf [311,091 byte]

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