카르본산 수용액중에서의 금의 양극산화에 의한 나노 다공질 피막의 형성

전문가 제언

○ 다공질 양극산화는 종래의 알루미늄에 한정되지 않고 Ti, Au, Co, Sn, Ni 등 다양한 금속과 다양한 전해액을 사용하여 전자, 정보통신, 생체, 의료 등에 적용되고 있다. 예로서, 다공성 양극산화의 표면적이 넓은 전기화학적 특성을 응용하여 망형의 태양전지용 TiO2의 광 양극(photo anode), 나노튜브, 나노복제용 템플릿 금형적용을 들 수 있다. 현재 워싱턴 국립암센터에서는 생쥐의 유방암 치료에 적용중이며 인간의 종양이나 암 치료에도 응용되고 있다.

 

○ 미국의 HENDRICKS, Neil은 2001년 실란계 나노 다공성 실리카 박막 및 제조방법에 관한 특허를 한국에 출원(KR1020017002582)하였다. 기판위에 소수성 나노 공극의 유전체 피막을 형성하는 방법이다. 전구체는 알콕시, 아세톡시 및 할로겐 잔류기를 포함하고 있다. 국내에서는 2009년 시드 형성방법 및 전자부품용 나노 다공질 알루미늄 산화막의 금속충진방법에 관한 특허(KR1020090023602)를 출원하였다. 다공질 나노 홀이 형성된 알루미늄 산화막을 염화팔라듐(PdCl2)과 염산(HCl)과 EDTA(ethylenediamine 4-acetate: C10H16N2O8)을 이용하여 활성화 처리하여 다공질 나노 홀에 시드를 형성하는 특허이다.

 

○ 국립 창원대학교 이찬규 교수는 2008년 수직 이방성을 가지는 나노기둥 자성박막 제조방법에 관한 특허를 출원(KR1020080072693)하였다. 이 특허는 수직 이방성을 가지는 나노기둥 자성박막을 제조하는 것으로, 순수 알루미늄을 2단계 양극산화법을 사용하여 균일한 크기의 기공을 갖는 다공질 알루미늄 양극산화피막을 형성한다. 이후 전해석출방법으로써 균일한 알루미나 기공 내부에 형상자기이방성을 갖는 대표적인 Co를 석출시키는 제조방법에 관한 특허가 제안되었다.

 

○ 최근, 수원의 성균관대학교 산학협력단은 양극산화를 이용한 칩 온 글라스기판의 제조방법 특허를 출원(KR1020070133560)하고 있다. 2011년전북대학교는 양극산화 알루미나 나노 다공질 성형틀 조직을 이용하여 제작한 GaN의 광학적, 구조적 특성이 관한 논문을 발표하였다. 향후 전기화학적 금속산화물 나노 다공질 층은 치수정밀도, 형상범위, 접합성이 뛰어난 표면처리부품에 적용이 가능할 것으로 사료된다.

저자

Kazuyuki NISHIO

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2014

권(호)

65(1)

잡지명

表面技術

과학기술
표준분류

재료

페이지

24~29

분석자

김*상

분석물

• 카르본산 수용액 중에서 금의 양극산화에 의한 나노 다공질 피막의 형성.pdf [391,594 byte]

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