레이저 CVD의 실용화

전문가 제언

화학증착법(CVD; Chemical Vapor Deposition)은 반도체부품 제조나 공구의 코팅에 사용되며, 일반으로는 박막공정이라 생각되고 있다. CVD는 고순도로써 고밀도의 재료나 도가니 등의 대형부재의 제조에도 사용될 수 있다. 이에는 CVD에 의한 단결정 육성용 6방정 질화붕소(hBN; hexagonal Boron Nitride) 도가니가 있다.

이 외에도 직경 30㎝의 W타깃이나 직경 10㎝의 SiC웨이퍼 등, 다수의 부재가 CVD에 의해 제조되고 있다. 그러나 CVD효율은 보통 수%정도이기대문에 대형부재의 구조에서는 원료가 저렴한 금속Halide나 금속수소화물에 한정된다. 두꺼운 막이나 재료를 제조하기 위해서는 성막속도를 올리지 않으면 안 되기 때문에 고온에서 반응을 실시할 필요가 있다. 본고에서는 레이저 CVD에 의한 재료개발에 관하여 기술하였다.

저자

GOTO Takashi

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2013

권(호)

83(7)

잡지명

金屬

과학기술
표준분류

재료

페이지

587~588

분석자

이*용

분석물

• 레이저 CVD의 실용화1.pdf [239,828 byte]

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