반응성 스퍼터링의 펄스DC 적용으로 가스상 나노입자 발생의 놀라운 증가

전문가 제언

반응성 스퍼터링의 가스집단 클러스터소스를 사용해서 펄스방전이 DC방전과 비교해서 10배보다 높은 나노입자의 증착속도 증가를 얻었다. 이 효과는 높은 전력인가충격에 대한 약간의 타겟산화(time-off 동안)와 Ti 산화물(sub-oxide)의 차후 스퍼터링 사이의 평형상태에서 발생됨을 제안한다.

저자

Oleksandr Polonski et al.

자료유형

연구단신

원문언어

영어

기업산업분류

전기·전자

연도

2013

권(호)

103

잡지명

Applied Physics Letters

과학기술
표준분류

전기·전자

페이지

0331181~0331184

분석자

박*식

분석물

• 반응성 스퍼터링의 펄스DC 적용으로 가스상 나노입자 발생의 놀라운 증가.pdf [243,015 byte]

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