투명 도전막(ITO)의 프로세스와 막특성

전문가 제언

ITO(Indium Tin Oxide)는 디스플레이에 많이 사용되고 있는 투명 도전막이다. 인듐()은 희소금속으로 고가이기는 하지만 ITO는 현재 알려진 투명 도전막 중에서 가장 저항이 작고, 성막 조건도 쉽게 실현될 수 있다. ITO의 대체 재료도 많이 연구되고 있지만, 성막 조건이나 대형화가 곤란한 문제가 있다. 이 논문에서는 ITO의 스퍼터링(sputtering) 법에 의한 성막 파라미터의 영향과 ITO 타겟에의 첨가물에 의한 ITO 막의 영향에 관해서 해설한다.

저자

Makoto ARAI

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2013

권(호)

64(7)

잡지명

表面技術

과학기술
표준분류

재료

페이지

396~399

분석자

강*태

분석물

• 투명 도전막(ITO)의 프로세스와 막특성.pdf [254,700 byte]

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