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드라이아이스 입자를 이용한 건식 표면 세정법

전문가 제언: ○ 드라이아이스는 석고와 유사한 정도의 경도로서 제품표면에 마모나 스크래치 등이 없고 제품을 해체하지 않은 상태에서 표면세정이 가능하며, 세정 후 잔존물도 거의 남지 않는다는 점에서 기존 습식세정법에 비해 획기적인 세정법으로 이용되고 있다.

○ 특히, 반도체나 디스플레이 등 첨단 전자제품의 표면세정에는 화학약품 등에 의한 세정으로는 폐수의 대량발생과 함께 효율 제고의 문제로 드라이아이스를 이용하거나 레이저를 이용하는 표면 세정법이 자리 잡고 있다.

○ 다만, 오염물이 부품표면에서 탈착되는 최적 공정조건에 대한 연구와 함께 사용되는 드라이아이스의 최적량 이용으로 경제성을 높일 수 있는 방안이 개발되고 있다.

○ 최근에는 방사능으로 오염된 지역에서 드라이아이스를 이용하여 오염물을 제거하는 연구와 사례도 나오고 있어 노즐을 비롯한 세척장비의 개발이 활발하다.

○ 드라이아이스의 온도는 -78.5℃로서 매우 낮아 주위의 습도가 많은 경우 습기가 고속 분출되는 제트기류에 응결되는 위험도 있으나, 드라이아이스 팰릿을 이용하여 극복하고 있어 새로운 드라이아이스 세정기법이 출현하고 있다.

○ 국내에서도 벤처기업 등에서 드라이아이스 입자 관련 세정법에 대한 최신기술의 활발한 개발로 수출에 까지 나서고 있어서 고무적인데, 향후에는 특정 세정표면에 최적화한 세정법의 개발이 추세가 될 것으로 보인다.

저자: Yi-Hung LIU and Shuji MATSUSAKA
자료유형: 학술정보