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키랄 구조론의 창조를 목표로

전문가 제언

필자는 석사과정을 수료한 후, 히타치제작소(Hitachi, Ltd.)에서 실리콘디바이스의 개발에 종사했다. 최첨단의 연구였지만, 그의 ?공학적?내용에 모자라지 않도록 기초연구를 하고 싶다는 생각을 억제할 수가 없었다. 학회에서 만났던 Tokyo University 교양학부의 Akihiko Yamagishi 교수에게 연구실에서 연구할 수 있도록 부탁했고, 다행히 허락을 받아서 휴일에 대학에서 연구를 수행할 수 있게 되었다.

테마는 그 당시 교수가 연구하고 있던 「점토표면에 있어서 키랄 금속착화합물의 흡착상태」에 대한 이론적 어프로치였다. 평일에는 기업에서 개발에 종사했고, 휴일은 대학에서 전혀 다른 테마를 연구했다. 당시 교양학부에 계셨던 Shigeki Kato 선생에게 이론면에 대해서 지도를 받았다.

현재는 커다란 계산도 기존의 프로그램을 컴퓨터로서 간단히 해결할 수 있다. 그러나 당시는 점토면을 어떻게 모델화해야 할지, 금속착화합물의 계산에도 연구가 필요했다. 우선, 비경험적 분자궤도법에 의하여 당시로서는 처음으로 점토실리케이트면의 전자상태를 밝혔다. 계산에는 분자과학연구소의 대형계산기를 사용했다. 다음에 Kato 선생으로부터 열평형상태를 산출하는 메트로폴리스?몬테카를로법(Metropolis?Monte Carlo method)과 곡면프로그램을 배웠다.

금속착화합물로서 D3 대칭성을 가지는 트리스 킬레이트형 착화합물[Ru(phen)3]2+(phen=1,10-phenanthroline) 및 [Ru(bpy)3]2+(bpy=2,2'-biphyridil)을 취하고, 점토면에 있어서 이들 착화합물의 열역학적으로 안정한 흡착구조를 유도할 수 있었다. 얻어진 결과는 실험적으로 보였던 에난티오머와 라세미 혼합물과의 포화흡착량의 현저한 차이를 훌륭하게 설명했다.

저자
Hisako Sato
자료유형
연구단신
원문언어
일어
기업산업분류
화학·화공
연도
2013
권(호)
66(1)
잡지명
化學と工業
과학기술
표준분류
화학·화공
페이지
29~31
분석자
정*진
분석물
담당부서 담당자 연락처
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