나노임프린트법에 의한 미세 패턴의 전사성형

전문가 제언

나노임프린트(nanoimprint) 기술은 1㎛ 이하의 패턴 구조를 값싸게 일괄적으로 가공할 수 있는 수법이다. 이 기술은 열 임프린트, 빛(UV) 임프린트 및 소프트(micro-contact) 리소그래피의 3종류로 분류할 수 있다.

저자

J. Mizuno, A. Okada, T. Kasahara

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2013

권(호)

25(4)

잡지명

成型加工

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

161~164

분석자

황*일

분석물

• 나노임프린트법에 의한 미세 패턴의 전사성형.pdf [259,909 byte]

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