디바이스 리소그래피 활용을 위해 자기조립이 가능한 고분자 템플레이트 제조법

전문가 제언

○ 각종 IT제품들을 고기능화, 다기능화 시키기 위해 단위면적당 많은 패턴을 넣기 위한 경쟁이 치열하다. 미세 패턴 혹은 기기들을 제조하기 위해서 EUV 등을 이용한 주로 리소그래피방법이 사용되고 있다. 리소그래피방법의 한계를 넘어서는 미세패턴을 제조하기 위해 분자단위의 패턴을 만들기 위한 노력들이 경주되고 있다. 빛의 회절 등에 의한 해상도 한계를 뛰어 넘을 수 있는 방법이 블록공중합체를 이용한 도메인을 이용한 패턴의 제조방법이 기대를 모으고 있다.

○ 블록공중합체의 자기조립이 일어나게 유도하는 데는 그라포에피택시 템플릿과 화학적 예비패턴(화학에피택시) 2가지 방법이 있다. 그라포에피택시방법은 기질표면에 위상예비패턴(topological pre-pattern)에 의해 자발조합이 일어난다. 화학에피택시방법은 기질표면의 화학적 패턴(화학적 템플릿)에 의해 적어도 한 도메인이 화학적 친화력에 의해 표면에 배열되어 자기조립이 유도된다. 자기조립블록공중합체는 서로 다른 두 블록도메인이 기질에 평행 혹은 수직으로 교대로 배열되어 평행한 선형 혹은 평면도메인을 만든다.

○ 이 발명은 자기조립능이 있는 블록공중합체를 원하는 형태의 도메인을 형성시키기 위해 기질에 템플릿을 만드는 방법이다. 템플릿은 포토리소그래피방법으로 서로 다른 화학적 친화력을 가지는 제1, 제2 영역을 교대로 가지는 화학에피택시 템플릿 및 그라포에피택시 템플릿을 사용한다. 화학에피택시패턴은 그라포에피택시 패턴 사이에 배열되어 있다.

○ 에피택시템플릿을 이용한 자기조립 블록공중합체의 도메인형태를 유도하는 것은 이 분야를 연구하는 대표적인 방법이다. 국내에서도 이와 유사한 방법으로 많은 연구자들이 연구하고 있다. 이 발명의 청구범위는 이미 많은 연구자들이 알고 있고 실제 연구하고 있는 일반적인 방법이 청구되어 있다. 향후 국내연구자들이 블록공중합체 및 템플릿물질들을 구체화하여 특허를 획득할 수는 있을지라도 생산에 적용할 경우 이 발명이 원천특허로서 위력을 발휘할 수도 있다. 연구자들은 이런 문제점에 대해 미리 대비하여야할 것이다.

저자

ASML Netherlands B.V.

자료유형

특허정보

원문언어

영어

기업산업분류

화학·화공

연도

2013

권(호)

WO20130010730

잡지명

PCT특허

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

~45

분석자

박*진

분석물

• 디바이스 리소그래피 활용을 위해 자기조립이 가능한 고분자 템플레이트 제조법.pdf [292,466 byte]

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