나노임프린트를 이용한 디바이스 개발

전문가 제언

Asahi Glass사에서는 불소계 화합물의 특징을 활용한 특유의 광경화성 나노임프린트용 재료로서 "나노임프린트(nanoimprint)용 광경화 수지(NIF)"를 개발하고 있다. NIF는 우수한 이형내구성을 가진 것이 특징의 하나이다. 어플리케이션으로는 “와이어 그리드(WG) 편광소자"의 개발이 진행되고 있다.

저자

Sakamoto Hiroshi

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2012

권(호)

61(9)

잡지명

高分子

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

703~704

분석자

황*일

분석물

• 나노임프린트를 이용한 디바이스 개발- 와이어 그리드(WG) 편광소자.pdf [253,812 byte]

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