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촉매표준기준 에칭에 의한 단결정 SiC, GaN 표면의 평활화

전문가 제언
.
저자
Kazuto YAMAUCHI et al.
자료유형
학술정보
원문언어
일어
기업산업분류
일반기계
연도
2012
권(호)
78(11)
잡지명
精密工學會誌
과학기술
표준분류
일반기계
페이지
947~951
분석자
송*국
분석물
담당부서 담당자 연락처
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