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초고집적 회로의 한계와 새로운 전개

전문가 제언
실리콘 초고집적 회로는 실리콘 중에 농도와 위치를 제어하고, 불순물을 도입하여 디바이스 기능을 발현시킨다. 집적회로는 실리콘 디바이스를 미세화 하여 고집적화, 고기능화가 진행되고 있으나, 원리적으로 한계가 있다. 그 중에 하나가 디바이스의 불순물 개수나 위치가 다르기 때문에 발생하는 디바이스 특성의 편차이다. 여기서는 집적회로의 한계를 해설하고, 향후 전개를 설명한다.
저자
Tohru Mogami
자료유형
연구단신
원문언어
일어
기업산업분류
재료
연도
2013
권(호)
66(1)
잡지명
化學と工業
과학기술
표준분류
재료
페이지
012~014
분석자
김*환
분석물
담당부서 담당자 연락처
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