내 신청현황
종류	모집공고명	진행상태
신청내용이 없습니다.

첨단기술정보

home
알림마당
과학기술정보분석
첨단기술정보

기능성 에폭시수지를 이용한 포토레지스트의 제조 및 응용

전문가 제언: ○ 포토레지스트는 고분자조성물로서 빛을 받았을 경우 중합이 일어나 경화되어 용매에 불용이 되는 타입과 빛을 받았을 경우 분해되어 용매에 용해되는 2종류로 나누어진다. 포토마스크를 이용하여 빛을 조사하고 빛을 받은 부분과 받지 않은 부분의 용해도차이를 이용하여 현상하게 된다.

○ 포토레지스트는 처음에는 인쇄용으로 개발되어 인쇄회로기판용, 반도체용, LCD용 등으로 그 응용범위를 넓혀가고 있다. 근래에는 포토레지스트를 이용한 반도체기술을 응용하여 미크론 크기의 기기인 MEMS, 나노크기인 NEMS 등에까지 응용되기에 이르게 되었다. MEMS, 외팔보(cantilever) 등은 각종 센서, 의료용 등으로 응용이 기대되고 있다.

○ 에폭시계통의 포토레지스트는 경화된 후 기계적 물성과 생체적합성 등이 우수하다. 이 발명은 이러한 에폭시포토레지스트의 이용하여 MEMS 등의 기기를 제조할 경우 기기표면을 화학적인 방법으로 용이하게 개질하기 위한 것이다. 기존의 에폭시계통의 포토레지스트(SU-8)에 관능기를 가진 에폭시화합물을 첨가하고 반응시켜 포토레지스트로 사용하여 MEMS 등의 표면에 관능기를 가진 기기를 제조한다. 기기표면의 관능기를 이용하여 항원, 감지물질 등을 부착시켜 센서 등으로 응용한다.

○ 이 발명은 아직 개발초기단계인 MEMS, NEMS 등의 미세기기들의 응용범위를 넓혀줄 수 있는 우수한 발명으로 사료된다. 국내에서도 MEMS 등에 대한 연구들이 진행되고 있지만 아직 선진국을 따라가기에 급급하다고 해도 과언은 아닐 것이다. 이 발명과 같이 기존에 알려진 여러 기술들을 융합시켜 새로운 시스템을 개발할 수 있는 능력을 배양해야 할 것이다.

○ 이 발명의 방법은 에폭시포토레지스트 뿐만 아니라 모든 에폭시레진으로 이루어진 제품의 표면을 개질하는데 응용이 가능하다. 에폭시수지의 기능향상과 새로운 응용을 개발할 수 있는 방법임으로 다양한 시도를 해볼 필요가 있다.

저자: Indian Institute of technology, Bombay
자료유형: 특허정보