나노임프린트 리소그래피에 있어서 이형기술

전문가 제언

광경화성 조성물을 잉크제트 공급방식으로 하는 J-FIL과 광경화성 조성물의 스핀 도포막을 사용하는 UV-NIL의 현상을 개설하고, 결함밀도를 저감할 수 있는 이형기술의 최근 진보에 대하여 소개하였다.

저자

Nakakawa Masaru

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2012

권(호)

61(9)

잡지명

高分子

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

706~709

분석자

서*석

분석물

• 나도임프린트 리토그라피에 있어서 이형기술.pdf [289,933 byte]

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