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첨단기술정보

나노미터 스케일의 소프트 리소그래피

전문가 제언: 나노기술의 진보는 정확하게 정의된 나노스케일의 구조물을 제작하는 능력에 달려 있다. 예를 들어 반도체 집적회로 및 그와 관련된 소자들은 보통 극히 정교한 장비에서 전자빔, 이온빔, 광자를 이용하여 제작된다. 그러나 그런 기술들은 고가의 장비와 특별한 시설을 필요로 하기 때문에 실험적 연구에 사용하기 어려울 뿐 아니라 대상 재료의 선택 폭이 좁고, 속도가 너무 느려서 넓은 면적의 시편에 사용하기 어렵다.
최근 Liao 등(Science, 337, p.1517, 2012)은 기판과 접촉 시킨 양각 패턴의 합성고무 스탬프를 기판과 분리시키는 과정에서 기판 금속의 단분자층까지 함께 떼어내는 방법으로 나노스케일 패턴을 만들었다. 이 방법은 기존의 ‘소프트 리소그래피(soft lithography)'를 진일보시킨 것으로서 높은 분해능을 나타내며, 간단한 방법으로 고가의 복잡한 장비에 접근하기 어려운 연구자들에게 훌륭한 대안을 제공한다.