sub-20nm를 목표로 한 NIL 몰드

전문가 제언

차세대 리토그라피로 주목을 받고 있는 나노임프린트 리토그라피(Nanoimprint Lithography, 이하 NIL) 기술에 대한 연구개발 현황에 대하여 기술하고 있다. NIL에 있어서는 몰드 제조가 핵심 기술이다. 몰드 제조에 있어서 해결해야 할 과제와 sub-20nm의 차세대 리토그라피를 목표로 한 리프리카 몰드의 제조방법 및 앞으로의 차세대 리토그라피용 몰드 개발에 대하여 해설하고 있다.

저자

Norimoto Sakahisa

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2012

권(호)

61(9)

잡지명

高分子

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

693~694

분석자

서*석

분석물

• sub-20nm를 목표로 한 NIL 몰드.pdf [137,315 byte]

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