나노임프린트 공정에 의한 반사방지 구조

전문가 제언

○ 본고는 양극산화 다공성알루미나를 이용한 나노임프린트 공정에서 무반사 나노(moth-eye)구조의 형성과 반사방지 특성을 소개하고 있다. 공정을 위해서 요구되는 패턴이 표면에서 돌출되어 있는 스탬프가 필요하다. 나노 사이즈의 패턴이 양각인 스탬프는 보통 전자빔 리소그래피와 건식 에칭 방법으로 만들고 있다.

○ 무반사 나노구조 형성부분은 평활부분에 비해 빛의 반사가 크게 억제된다. 무반사 나노구조 돌기가 높게 됨에 따라 반사방지 특성이 향상된다. 이것은 돌기높이 증대에 동반하는 무반사 나노구조 형성층에서 겉보기 굴절률 변화가 완만하기 때문이다.

○ 나노임프린트는 나노 사이즈 장비를 쉽고 경제적으로 만들 수 있는 장점이 있다. 이러한 점에서 장차 장비의 수요가 늘어날 것으로 예상이 된다. 오스트리아, 미국, 독일, 일본 및 한국 등 세계적인 반도체 장비업체가 나노임프린트 장비 개발에 열심히 노력하고 있어 많은 성과가 기대된다.

○ 열 나노임프린트 공정은 유리전이온도 이상으로 금형을 유지하여 수지를 연화시킨 상태에서 성형하는 공정으로 수지의 유동성을 양호한 상태로 유지할 수 있기 때문에 나노사이즈 형상에 수지의 전사 정밀도를 높일 수 있다.

○ 나노임프린트 기술은 산업체에서 적용을 위해 해결해야 될 과제가 있다. 우선 공정 및 장비의 개선이 필요하다. 현재 국내 대학에서도 이 공정을 이용한 장비를 제작하고 있다. 산업체는 생산 라인을 위한 장비 개발 및 개선 프로젝트 팀을 운용하고 있다. 유기적 성과를 위해 국가적 지원이 필요하다고 생각된다.

저자

YANAGISHITA, Takashi et al.

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

일반기계

연도

2012

권(호)

50(8)

잡지명

光技術コンダクタ

과학기술
표준분류

일반기계

페이지

20~25

분석자

송*국

분석물

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