에칭 내성이 높은 나노임프린트 재료

전문가 제언

에칭 내성이 높은 나노임프린트 재료로서 실록산 폴리머를 사용한 패터닝 방법 중 Soft Molding Process와, 그 중에서도 광경화성 수지를 사용하는 UV-NIL에 대한 검토 결과를 보고하고 있다.

저자

Shimatani Satoshi

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2012

권(호)

61(9)

잡지명

高分子

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

685~686

분석자

서*석

분석물

• 에칭 내성이 높은 나노임프린트 재료.pdf [140,049 byte]

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