스크린 인쇄법에 의한 투명 전도막 형성의 실현

전문가 제언

투명 전도막은 액정 디스플레이, 태양전지 패널 및 터치 패널 등 회로생성 용도에 널리 이용되고 있다. 대표적인 재료는 산화인듐에 주석을 도우프한 ITO(Indium-Tin Oxide)나 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO) 등이 있다. 그 중에서도 투명성 및 전도성이 우수한 ITO가 가장 많이 이용되고 있으며, 공업적으로는 실제로 글라스기판 전면에 스퍼터링법이나 진공증착법에 의해 투명 전도막을 형성한 다음 포토레지스트를 사용한 웨트 에칭 공정을 거쳐 배선 패턴이 형성되어 사용된다.

저자

Murahashi Koichiro

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2012

권(호)

60(7)

잡지명

工業材料

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

23~26

분석자

서*석

분석물

• 스크린 인쇄법에 의한 투명 전도막 형성의 실현.pdf [210,091 byte]

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