소성이 필요없는 은나노 입자 기술

전문가 제언

소성이 필요 없는 은나노 입자기술은 은과 정밀 다층 코팅기술의 조합으로 이루어진다. 전자회로 배선을 인쇄법에 의해 형성하는 겅우 종래에는 은나노 입자나 은 페이스트를 인쇄한 다음 120~200℃ 정도의 가열처리를 해왔다. 이를 위해 비교적 고가인 고내열성 기재를 필요로 할 뿐만 아니라 가열처리에 요하는 시간이, 생산성 향상에 대한 저해요인으로 되고 있다.

저자

Shino Sigeki

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2012

권(호)

60(7)

잡지명

工業材料

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

42~45

분석자

서*석

분석물

• 소성이 필요없는 은나노 입자 기술.pdf [223,622 byte]

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