ADVANTEST의 노광솔루션

전문가 제언

전자빔(EB) 노광장치는 전자원에서 사출된 전자선을 자계렌즈/편향기 등으로 수속/위치제어하고 전자선 Resist가 도포된 노광대상기판에 조사를 하여 목적의 패턴을 얻는 장치이다. 광원파장에 따라 해상성능에 한계가 있는 Photolithography와는 달리 EB 노광장치는 50kV 정도의 가속전압을 전자빔에 가하는 것으로 거의 수㎚의 높은 해상성능을 얻는다. 또 빔 편향에 의한 정밀한 위치제어나, 빔 조사의 실행/정지가 정밀하게 되기 때문에 기판 위에 임의의 미세패턴을 설계 데이터로부터 직접 생성 가능한 것도 큰 특징이다.

저자

Kurokawa Masaki

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2012

권(호)

60(8)

잡지명

工業材料

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

58~61

분석자

최*길

분석물

• ADVATEST의 노광 SOLUTION.pdf [210,888 byte]

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