내 신청현황
종류	모집공고명	진행상태
신청내용이 없습니다.

첨단기술정보

home
알림마당
과학기술정보분석
첨단기술정보

나노임프린트용 광경화성 수지

전문가 제언: ○ 나노임프린트 기술은 열을 가하는 방식과 UV경화성수지를 이용하는 방식이 있으며, 열을 가하는 방식은 열경화성수지를 이용하여 고온조건에서 스탬프를 고압으로 눌러 원래의 형상을 모사하며, UV 나노임프린트 방식은 광경화반응을 이용하여 UV경화성수지를 경화시켜 모사한다. UV를 이용하는 방식은 상온, 저압에서 모사가 가능한 장점으로 인해 크게 부각되고 있는 실정이다.
　
○ UV지원 나노임프린트 리토그라피는 임프린트된 기판 내에 배치된 UV 감광성 폴리머 필름에 200~400nm의 파장 내에서 투명한 몰드를 형압함으로써 패턴을 전사하고 이 몰드를 통하여 UV를 조사하여 수지필름을 광중합시킨 다음 폴리머필름에 전사한 패턴을 임프린트된 기판 내에 에칭하는 기술이다.

○ 광나노임프린트법에 사용되는 감광성 수지조성물은 반응 메커니즘의 차이로부터 라디칼중합형과 이온중합형으로 대별되며, 재료선택성으로부터 라디칼 중합형이 일반적으로 사용되고 있다. 광경화성 수지조성물에는 프로세스상 기판에 대한 젖음성, 밀착성, 금형 요철에의 충전성, 금형으로부터의 이형성, 경화수축성, 패턴의 기계강도 및 해상성 등이 필요하다.

○ 이 논문은 광나노임프린트 기술, 광나노임프린트에 사용되는 광경화성 수지의 동향에 대하여 기술하고 있다. 구체적으로는 광경화성 수지의 중합형태에 의한 분류로서 양이온 중합형과 라디칼 중합형에 대하여 해설하고, 용도별로는 레지스트 용도, 영구막 용도 및 리프리카 몰드의 종류 및 최근의 개발동향에 대하여 해설하고 있다.

○ 광나노임프린트용 광경화성 수지는 일본의 다이셀 화학(주)이 한국특허를 출원하고 있으며, 국내에서는 포항공대와 한국기계연구원이 UV경화 수지를 개발하고, 점성이 낮은 수지에 대하여 실시간 경화도를 측정하면서 나노임프린트를 할 수 있게끔 스핀코팅 방식으로 시편을 제작하는 경화모델을 개발하고 있다.

저자: Kawaguchi Taishu
자료유형: 학술정보