첨단 반도체 장치의 제조를 지지하는 마스크 결함 검사장치 기술

전문가 제언

반도체 장치의 고집적화와 대용량화에 수반하여 축소투영 리소그래피(lithography)용의 미세 패턴(pattern)을 묘화(描畵)한 마스크(mask)의 검사성능 향상이 중요도를 더하고 있다. 일본 Toshiba는 1980년대 초반으로부터 마스크 패턴 검사기술의 개발을 추진해 왔는데, 최첨단 장치세대에 적합한 성능을 가지는 마스크 결함 검사장치를 재빨리 개발하여 생산 라인에 투입하는 것이 한층 더 요구되고 있다.

저자

Ikunao Isomura

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

정보통신

연도

2012

권(호)

67(4)

잡지명

東芝レビュ-

과학기술
표준분류

정보통신

페이지

28~31

분석자

서*철

분석물

• 첨단 반도체 장치의 제조를 지지하는 마스크 결함 검사장치 기술.pdf [220,710 byte]

이미지변환중입니다.