계산과학을 이용한 리소그래피 설계기술

전문가 제언

리소그래피(lithography) 기술은 마스크(mask), 광근접 효과보정(OPC: Optical Proximity Correction), 노광장치, 레지스트(resist) 재료 및 레지스트 도포와 현상장치 등 다양한 요소기술로 구성되어 있다. 반도체 장치를 한층 더 고집적화하기 위해서는 이제까지보다 더 미세한 회로 패턴(pattern)을 형성하는 이 기술의 진화가 필수불가결하다.

저자

Satoshi Tanaka

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

정보통신

연도

2012

권(호)

67(4)

잡지명

東芝レビュ-

과학기술
표준분류

정보통신

페이지

7~10

분석자

서*철

분석물

• 계산과학을 이용한 리소그래피 설계기술.pdf [213,094 byte]

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