고전도도 고투명성 플렉시블 그래핀 기조 전도체

전문가 제언

○ 영국 Exeter대학, 그래핀 과학센터의 M. Cracium 팀이 개발한 고전도도, 고광투과성 플렉시블 그래핀 기조의 전도체에 관한 보고서이다. 3-5층 구조의 그래핀 막 층간에 염화제2철(FeCl3)을 삽입(intercalate)하여 84%의 광투과율을 유지하면서 시트저항은 8.8Ω/□의 값을 실현시켰다.

○ 광전자소재(optoelectronics)로 현재 널리 사용되고 있는 ITO의 85%광투과율에 시트저항 10Ω/□에 버금가는 수치이다. 2017년에는 조달한계에 도달할 것으로 전망되고 있어 고가경향을 보이고 있는 ITO를 대신할 수 있을 뿐 만 아니라, ITO보다 크게 유연하여 웨어러블(wearable) 디바이스의 실현을 앞 댕길 수 있는 소재로도 유망하다.

○ 포항공대의 K-S. Kim 교수팀이 2층 구조의 그래핀 층간에 염화제2철을 삽입시켜 전자기특성을 보고한 바 있으나 Exeter대학팀은 3-5층구조에서 시트저항이 크게 저감함을 찾아 낸 것이다.

○ 성균관대학의 홍병희 교수와 삼성전자 송영일 박사팀은 그래핀 필름의 양산체제를 제안하고 시트저항 저감을 위하여 63%의 질산용액 속에 5분동안 침지시켜 p-type doping을 실시하여 90%의 광투과율에서 30Ω/□의 시트저항 값을 얻은바 있다.

○ 우리나라의 광전자소재개발능력이 세계적 수준임을 보여준다. 이 소재기술의 발전가능성은 무한하다고 할 수 있다. 태양전지, 스마트폰, PC, 디스플레이 등의 제품기술에서 앞 서 있는 우리나라가 광전자소재에서 소재개발능력을 갖추어 소재분야 일본의존을 탈피할 수 있는 계기가 될 수 있다. 또한 이에 첨가하여 웨어러블기기의 개발선두주자가 될 수 있다.

○ 우리 산업경쟁력의 원천인 과감한 의사결정과 집중력이 요구되는 시점이다.

저자

I. Khrapach, et al.,

자료유형

학술정보

원문언어

영어

기업산업분류

전기·전자

연도

2012

권(호)

24

잡지명

Advanced Materials

과학기술
표준분류

전기·전자

페이지

2844~2849

분석자

조*

분석물

• 고전도도 고투명성 플렉시블 그래핀 기조 전도체.pdf [233,791 byte]

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