반도체 포토마스크의 정밀도를 높인 스캔형 현상기술

전문가 제언

반도체디바이스 회로패턴은 리소그래피(lithography)장치를 써서 포토마스크(Photo mask)상의 패턴을 축소전사(轉寫)하여 형성한다. 이 때문에 원판에 있는 포토마스크의 정밀도는 디바이스패턴 정밀도를 결정하는데 대단히 중요하다. 특히 포토마스크 제조에서 현상(現像)공정은 패턴의 바탕이 되는 레지스트(Resist)[感光劑] 패턴을 형성하는 공정이기 때문에 더욱 중요하다.

저자

SAKURAI Hideaki

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

전기·전자

연도

2012

권(호)

67(1)

잡지명

東芝レビュ-

과학기술
표준분류

전기·전자

페이지

58~59

분석자

김*우

분석물

• 반도체 포토마스크의 정밀도를 높인 스캔형 현상기술.pdf [219,247 byte]

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