자기조직화 리소그래피 기술

전문가 제언

자기 조립 재료인 이중 블록 공중합체(diblock copolymer)는 도포하는 간편한 공정으로 나노 크기의 규칙 패턴을 형성할 수 있기 때문에 차세대 리소그래피 기술로 주목받고 있다. 그러나 인공적으로 설계하는 반도체 소자 패턴의 형성에 자연현상인 자기 조립을 적용하려면, 자연의 규칙 패턴의 방향성을 제어하는 기술을 필요로 한다. Toshiba는 자연현상의 패턴에 인위적인 질서를 부여하기 위해 기존의 광 리소그래피(photolithography) 패턴을 가이드로 사용, 이중 블록 공중합체의 화학적 특성을 이용하여 패턴의 규칙성을 제어하는 기술 DSA(Directed Self-Assembly)를 개발하고 있다.

저자

Naoko KIHARA

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2012

권(호)

67(4)

잡지명

東芝レビュ-

과학기술
표준분류

재료

페이지

44~47

분석자

강*태

분석물

• 자기조직화 리소그래피 기술.pdf [205,359 byte]

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