차세대 마스크 공정에 대응하는 드라이 에칭 장치 ARES

전문가 제언

ARES는 Shibaura Mechatronics Corp.가 Toshiba와 기술 제휴하여 2006년부터 개발에 착수한 드라이 에칭 장치로 2009년에 양산기계를 출하했다. 이 장치는 최대 4개의 드라이 에칭 장치를 탑재할 수 있고 여러 가지 박막의 드라이 에칭에 대응할 수 있도록 설계되어 있다. 또한 EES(Equipment Engineering System)를 장비하고 드라이 에칭 성능의 신뢰성 관리를 강화했다. 드라이 에칭 공정 기술의 개발에도 2010년에 반 피치(hp: half-pitch) 44㎚의 극자외선(EUV: Extreme Ultraviolet) 마스크 패턴의 수직 형상 가공을 실현하고 국제학회에서도 높은 평가를　받았다.

저자

Y.Iino, T.Yoshimori, M.Iwami

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

정밀기계

연도

2012

권(호)

67(4)

잡지명

東芝レビュ-

과학기술
표준분류

정밀기계

페이지

24~27

분석자

강*태

분석물

• 차세대 마스크 공정에 대응하는 드라이 에칭 장치 ARES.pdf [295,577 byte]

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