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프로세스 플라즈마 내의 나노 및 마이크로 입자의 가열에 대하여

전문가 제언
○ 플라즈마 내에서 입자를 가열함으로서 이들 입자의 특성을 조절하거나 미소 크리스탈을 형성하는 것은 산업적으로 많은 응용 용도를 갖는다. 또한 플라즈마를 이용한 스퍼터링이나 식각 등에서 기판 온도를 조절함으로서 프로세스의 효율을 높일 수 있다.

○ 이러한 플라즈마 가열의 응용 가능성에 따라 플라즈마 가열 기술은 이미 30여 년 전부터 세계적으로 다양한 연구개발의 대상이 되고 있다.

○ 국내에서도 이와 관련된 연구 노력이 많은 대학과 연구소를 중심으로 이루어지고 있다. 서울대학교의 플라즈마 응용 연구 센터와 KAIST 물리학과 등이 대표적 예이다. 연구소로서는 한국표준과학연구원이 과거 조양구 박사를 중심으로 활발한 실적을 올렸으나, 근래 연구비 감소 등의 문제를 겪고 있다.

○ 이 분야에서 활동하는 몇몇 국내 벤처기업이 있으나, 활동 내용이 미미하여 제대로 평가를 하기 힘들다. 한 예로 수 년 전 전주의 완산 공단에 NPC(Nano Plasma Center)라는 벤처기업이 활동하고 있었으나, 근래 영업을 중단했다. 다른 연구기관애서 개발되어 전수받은 기술을 실시하는 과정에서 직면한 과도한 전기료 등 현실적인 문제 때문이다.

○ 많은 연구개발 노력에도 불구하고 이처럼 산업화가 더디다는 것은 기술의 기초 인프라가 아직 미흡하다는 의미일 것이다. 이에 따라 산업화를 목적으로 하는 성급한 응용 연구보다는 아직은 기반을 다지는 연구개발 노력과 함께 정부의 제도적 뒷받침이 요구된다.
저자
H R Maurer
자료유형
학술정보
원문언어
영어
기업산업분류
전기·전자
연도
2011
권(호)
44
잡지명
Journal of Physics D
과학기술
표준분류
전기·전자
페이지
1740291~1740297
분석자
은*준
분석물
담당부서 담당자 연락처
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