광나노 임프린트 리소그래피 기술

전문가 제언

최근 반도체 디바이스에 대한 소형화 및 저비용화의 요구는 점점 높아지고 있다. “광나노 임프린트 리소그래피 기술(UV Nanoimprint Lithography Technology)”은 이러한 시장의 요구에 응할 가능성 있는 기술이다.

Toshiba는 차세대 리소그래피 기술의 하나로 광나노 임프린트 리소그래피 기술을 반도체 디바이스에 응용하는 연구를 하고 있다. 결함을 감소하고 생산성을 향상하는 이율배반적인 문제를 극복하여 반도체 디바이스의 제조에 적용하고, 휘는 디스플레이와 입는 디바이스 등의 유연한 전자 디바이스에 적용을 확대하는 등으로 장래에 발전할 가능성이 있는 기술이다.

저자

T.Nakasugi, T.Kono, I.Yoneda

자료유형

연구단신

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2012

권(호)

67(4)

잡지명

東芝レビュ-

과학기술
표준분류

재료

페이지

41~43

분석자

강*태

분석물

• 광나노 임프린트 리소그래피 기술.pdf [213,430 byte]

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