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첨단기술정보

반도체 마스크 제조기술의 혁신

전문가 제언: 반도체 디바이스는 리소그래피(lithography)라고 부르는 전사기술에 의해서 대량생산된다. 회로 패턴을 전사하기 위한 원판이 마스크이다. 반도체회로의 미세화에 따르는 마스크 패턴의 미세화도 진행되고 있다. 마스크 패턴에 결함이 있으면 제조 생산율을 크게 저하하게 되므로 마스크 제조기술이 중요하다.

Toshiba(東芝)는 그룹기업과 협력기업이 공동으로 마스크제조의 기술혁신을 추진하여 대일본인쇄(주)(이하 DNP로 약기)와 설립한 마스크 제조회사 D. T. Fine Electronics Co. Ltd.(이하 DTF로 약기)에서 양산화와 반도체 미세화에 몰두하고 있다. 최근에 노광장치의 단파장화가 진행되어 극자외선(EUV: Extreme Ultraviolet) 리소그래피의 개발이 이루어지고 있다. 다층 막 거울(mirror)이라고 하는 종래 마스크와는 다른 구조를 갖는 EUV 마스크에 대해서 새로운 제조장치의 개발을 진행하고 있다.