이온 결정체에 대한 X-선 광전자 분광기 피크 넓어짐의 분석

전문가 제언

X-선 광전자 분광기(XPS)는 불균일 촉매에서 가장 널리 이용되는 강력한 표면-민감성의 연구도구이다. XPS는 주로 XP피크 면적과 위치를 분석함으로 전구물질 활성자리의 표면 종 규명, 활성화, 노화와 중독 및 전자적 구조와 같은 촉매수명상의 여러 단계에서 질량적 및 요소 특성정보를 제공한다.

이 연구는 산화물 박 필름의 유연성을 조사하기 위하여 XPS 넓어짐을 사용하는 새로운 방법을 논증하였다. 특히 단일 결정 또는 두꺼운 MgO필름의 해당 선 넓이를 Ag(100)에 지지한 MgO 극초 박 필름에서 얻은 결과와 비교하여 MgO 이온화의 선 넓이의 큰 감소를 확인하였다.

이 분석의 결과 촉매활성에 영향을 주는 유연성의 개념은 일반적으로 사용 가능한 기술적인 광전자 분광기를 사용하여 더 연구될 것이다.

저자

Connie J. Nelin, Paul S. Bagus, Matthew A. Brown, Martin Sterrer, and Hans-Joachim Freund

자료유형

연구단신

원문언어

영어

기업산업분류

화학·화공

연도

2011

권(호)

50

잡지명

Angewandte Chemie International Edition

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

10174~10177

분석자

김*원

분석물

• 이온 결정체에 대한 X-선 광전자 분광기 피크 넓어짐의 분석.pdf [212,051 byte]

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