나노 크기 플라즈마 식각의 전망: 궁극적인 한계는?
- 전문가 제언
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○ 플라즈마 식각 기술은 플라즈마 기술과 반도체 기술이 결합된 일종의 학제적 연구 분야이다. 각종 화학 용액을 사용하여 많은 환경오염 부산물을 발생하는 습식 식각과 달리 플라즈마 식각은 건식이기 때문에 좀 더 환경 친화적이다. 또한 습식 식각에 비하여 높은 선택성과 비등방성 및 재생성을 나타내어 패턴 생성의 효율을 높일 수 있다.
○ 세계 최고 수준인 국내 반도체 산업에서 플라즈마 식각 기술을 활용한지는 오래이다. 이제 반도체의 길이 스케일이 나노 영역으로 들어서면서 이제까지와는 다른 차원의 현상과 문제에 직면할 가능성이 있다. 세계적으로 이와 관련된 연구개발 노력이 치열한 것은 이것이 바로 미래의 반도체 시장을 결정할 핵심 요소이기 때문이다.
○ 국내에서도 이 분야의 연구가 산업계, 대학, 연구소에 걸쳐 활발히 수행되고 있다. 서울대의 홍상희 명예교수와 한국표준과학연구원의 노삼규 박사 등이 활발한 활동을 하고 있다. 최근에는 광운대학교에 플라즈마 ERC가 설치되어 국내 체계적인 연구의 한 축을 이루고 있다.
○ 이 리뷰 논문에서 지적한 바와 같이 나노 크기 식각 기술로서 플라즈마를 배제한 다양한 기술들이 검토되고 개발되었으나 아직은 플라즈마 기술을 대체할 기술이 없다고 결론되고 있다. 미래 반도체의 나노 크기 식각 기술로서 플라즈마 기술의 잠재적 중요성을 감안할 때 우리나라 젊은 과학기술자들의 많은 관심이 요구되는 시점이다.
- 저자
- Nathan Marchack
- 자료유형
- 학술정보
- 원문언어
- 영어
- 기업산업분류
- 전기·전자
- 연도
- 2011
- 권(호)
- 44
- 잡지명
- Journal of Physics D
- 과학기술
표준분류 - 전기·전자
- 페이지
- 17401101~17401111
- 분석자
- 은*준
- 분석물
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