저온 분사법에 의한 광촉매 산화티탄 박막 제조기술 개발

전문가 제언

○ 저온 분사법은 기존의 용사기술과 달리 가열하지 않고 상온에서 코팅하는 것이 가능하므로 코팅할 소재의 물성을 그대로 유지할 수 있다. 또한 코팅 대상 소재와 반응이 없기 때문에 기재가 변형되는 것을 방지할 수 있다. 내고온 산화성, 내열성, 내마모성 등을 높여주기 위한 목적으로 사용되고 있는 저온 분사(cold spray)와 고속화염 용사기술(HVOF)은 항공우주산업, 산업기계, 석유산업, 제철산업 등에서 많이 활용되고 있다.

○ 대기 중에서 실시하는 저온 분사법에서는 충격파의 영향이 크며, 입경이 작거나 비중이 적은 재료는 기재 직전의 속도(충돌속도)가 크게 낮아진다. 그러나 에어로졸 디포지션에서는 속도가 저온 분사법에 비해서 낮아, 미세한 경량 분말이라도 충분한 충돌속도로 기재에 출동?추적이 가능하다. 따라서 저온 분사법에서 충격파에 의한 입자충돌 속도를 극복하는 것이 중요하다.

○ 광촉매 소재개발의 문제점으로 수지나 바인더로 표면을 피복하는 경우 광촉매 기능이 크게 약화되거나, 종이나 수지 등의 기재와 복합화하는 경우 광촉매의 강력한 분해 능력으로 기재의 열화가 발생될 수 있다.

○ 필자는 아나타제형 TiO2의 원료분말을 최적화하여 막 제조를 시도하였다. 저온 분사법을 이용하여 제조한 막은 원료 분말과 동등한 광촉매 특성을 나타내고 있는 것을 증명하였다.

○ 이 연구에서는 세라믹 입자를 이용한 저온 분사법에 대하여 설명하고 있으며, 세계에서 처음으로 성공하였다고 보고하고 있다. 국내에서도 정부과제로 대학과 기업이 저온 분사법에 대하여 연구를 실시하여 성공을 하고 사업화를 하였다. 이 문헌에서 세라믹 원료를 사용하는 기구에 대해서는 해명을 하지 못하였으나, 원료의 최적화가 관건이라고 보고 있다. 저온 분사법이나 광촉매 연구자들이 관심을 가지길 바란다.

저자

Motohiro Yamada

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2011

권(호)

46(7)

잡지명

セラミックス

과학기술
표준분류

재료

페이지

536~540

분석자

김*환

분석물

• 저온 분사법에 의한 광촉매 산화티탄 박막 제조기술 개발.pdf [316,027 byte]

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