도포 광조사법에 의한 금속산화물 막의 제조

전문가 제언

○ 다양한 기능을 나타내는 금속산화물은 새로운 정보·일렉트로닉스 산업에 필요한 재료로 기대되고 있다. 전자디바이스 제조에는 새로운 재료 개발도 필요하나, 이종재료 적층으로 새로운 기능이 발현되는 것이 가능하기 때문에 재료의 박막과 적층기술 개발도 중요한 과제가 되고 있다.

○ 박막기술은 기상법과 액상법으로 구분되며 기상법에는 PVD법과 CVD법이 있다. 진공증착법, 스퍼터링법, MBE법, 레이저 스퍼터링법이 PVD 영역에 속하며, 레이저CVD, 광CVD, 열CVD, MOCVD, ECR 플라스마CVD 등이 CVD 영역에 속한다. 액상법으로 도금법, 양극산화법, 도포법, 졸-겔법 등이 있다. 이외에도 다양한 기능과 구조와 조성을 형성하는 새로운 박막기술이 등장하고 있다.

○ 박막 제조방법은 각 방법과 공정에 따라 장단점을 가지고 있다. 주로 검토 대상이 되는 것은 용도, 조성제어, 생산성, 설비에 따른 투자비용, 환경문제 등에 따라서 우열이 가려지게 된다.

○ 이 문헌은 용액법을 이용하여 유기기판 상에 기능성 산화물 막 제조에 관한 것이다. 특히 램프나 나노입자를 이용한 도포 광조사법으로 형광체 막이나 투명도전막에 제조에 대한 연구를 소개하였다. 도포 광조사법은 다양한 산화물 박막의 다결정 막이나 에피택셜 막을 저온에서 패터닝 성형이 가능하기 때문에 다양한 디바이스 제조에 유효한 방법으로 기대된다.

○ 박막기술은 반도체 산업을 비롯하여 현재 많이 연구되고 있는 나노 분야에서는 가장 중요한 기술의 하나이다. 최근에는 새로운 박막기술 개발이 인공 다층박막, 자기조직화 박막 성형, 층상 무기물질을 이용한 유기박막 성형 등이 연구되고 있어 이 분야 기술에서 후진국인 한국도 새로운 박막기술 개발에 많은 노력이 필요하다고 사료된다. 특히 디스플레이 분야에서는 박막 성형에 많은 공정과 설비가 필요하다. 이 문헌에 소개한 바와 같은 용액법은 관심이 큰 방법이므로 관련 분야 연구자의 필독을 기대한다.

저자

Tomohiko Nakajima

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2011

권(호)

24(3)

잡지명

マテリアル インテグレ-ション

과학기술
표준분류

재료

페이지

45~49

분석자

김*환

분석물

• 도포 광조사법에 의한 금속산화물 막의 제조.pdf [238,785 byte]

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