할로겐 프리 에폭시수지

전문가 제언

○ 본 문헌에서는 할로겐 프리(free) 에폭시수지에 대하여 설명하고 있다. 특히 전자재료 분야에서의 할로겐 프리화의 의의를 포함한 배경 그리고 할로겐 프리 에폭시수지의 프로세스와 평사방법에 대하여 개괄적인 설명을 하고 있다.

○ 에폭시수지의 불순물인 염소에 대한 시장으로부터의 요구는 시기적으로 몇 차례 큰 계기가 있었다. 처음은 1980년경 반도체 메모리가 세라믹 봉지로부터 에폭시수지 봉지로 변경되었을 때 에폭시수지 중의 유기 결합 불순물 염소가 고온, 고습도 하에서 떨어져 나와 무기 연소가 됨으로써 알루미늄 배선을 부식시켜 절연 불량 등의 문제를 일으켰을 때이다.

○ 이를 위해 반도체 봉지용의 크레졸 볼락 에폭시수지에 대하여는 범용제품의 전체 염소 1300?, 가수분해성 염소 750? 정도이던 것이 반응조건, 정제방법을 최적화함으로써 고순도 타입으로서 전체 염소 700?, 가수분해성 염소 350? 수준의 제품이 개발되어 에폭시수지 반도체 봉지제로서의 사용이 본격화되었다.

○ 염소 불순물의 혼입이 없는 제조방법으로서 탄소-탄소 이중결합을 과산화물에 의해 산화시키는 방법이 최근 등장하였다. 공업적으로 예전부터 실시되어 온 방법으로는 과산화물에 의한 시클로알켄을 에폭시화 하고 대응되는 시클로알켄옥시드를 얻는 방법이 있다.

○ 최근 할로겐, 중금속 등의 환경부하물질의 삭감이 세계적으로 진행되고 있다. 대표적으로 유럽의 WEEE, RoHS, REACH, 미국의 Proposition 65 등의 규제가 있다. 한국을 비롯한 각국에서는 환경 부하가 작은 것을 우선적으로 조달한다. 소위 녹색 구매 활동이나 상품이 환경에 대해 배려한 것을 나타내는 에코 라벨 활동이 활발해지고 있다.

○ 한국은 전자공업 등에 관련한 주변 산업기술이 꽤 높은 위치를 차지하고 있다. 그러나 주요 핵심 재료는 일본에 의존하는 경우도 많다. 보다 기초적인 연구개발에 힘을 쏟아야만 한다.

저자

Hiroshi Uchida

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2011

권(호)

34(2)

잡지명

ペトロテック

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

101~105

분석자

이*동

분석물

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