나노 점형 주기적 미세구조

전문가 제언

○ 오늘날의 미세구조 제조를 위한 나노 패터닝은 반도체 산업뿐만 아니라 발광다이오드(LED), 태양전지, 광통신용 소자 등 각종 첨단산업 발전에 필수기술이 되고 있다. 필요한 리소그래피 기술은 통상의 2D에서 3D로 발전하여 나노패터닝 기술은 높은 정보밀도, 대면적, 적은 설비투자로 더 높은 생산성을 추구함에 따라 나날이 신기술을 탄생시키고 있다.

○ 단파장 광원 소스를 계속 추구하는 광학적 리소그래피가 가시광선, 자외선, KrF, 액침 ArF 등이 한계를 맞아, 최근 극자외선(포스텍 방사광가속기연구소/삼성전자), 전자빔리소그래피, X선 리소그래피 등이 연구되고 있다. 현재는 고가의 설비가 필요하고 대면적 적용이 어려운 문제가 있지만 직접 묘화 방식의 전자빔 리소그래피가 가장 선호되고 있다.

○ 한편 알루미나 전해양극산화 이용과 같은 자기조직화에 의한 패터닝법이 저코스트로 대면적의 미세가공이 가능하므로 주목되고 있다. 상업적 대면적 적용 목표의 신기술 중에서 나노임프린트 리소그래피(NIL) 기술, 고출력 펨토초 펄스레이저에 의한 감광수지 중합 이용 두 광자흡수(TPA)/다광자 흡수중합의 MAP법이 3차원 미세구조 제조에 응용 가능성이 크다. 후자는 한국과학기술원의 공홍진 교수의 연구활동이 활발하다.

○ 이 글은 소수화 처리된 입자 단층막을 자기조직화에 의해 기판 표면에형성하고, 이를 마스크로 하여 건식에칭에 의한 나노 점형 주기적 미세구조의 주형 제조를 소개하고 있다. 에칭 조건에 따른 역피라미드형 등의 다양한 주형 구조가 고분자 나노임프린트 사용으로 직경 300㎜까지 성공하였다. 굴절률을 연속 변화시킬 수 있어 반사방지 응용에 최적이다.

○ 최근 나노임프린트 기술은 22㎚ 이후의 차차세대 반도체를 위한 선폭 10㎚에서 7㎚까지도 가능한 경제적 기술로 한국기계연구원의 이재종 박사가 9년 연구 끝에 UV/열적 하이브리드 방식으로 개발하였다. 6인치급 다층 나노임프린트 장비의 공정기술과 측정장비를 개발하여 2~3년 내 상용화가 기대된다. 이 방면에서 한국은 세계 3대 선진기술 내에 들게 되었다.

저자

Kei Shinotsuka

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2010

권(호)

30(12)

잡지명

機能材料

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

34~40

분석자

변*호

분석물

• 나노 점형 주기적 미세구조.pdf [387,296 byte]

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