투명 전도성 구조층 제조법

전문가 제언

○ 유기발광다이오드(OLED)의 기본구조는 투명한 유리나 플라스틱의 기판위에 두 개의 전극을 장착하고, 두 전극 사이에 유기 발광 재료가 삽입된 형태로 전하의 주입을 더욱 활성화시키기 위하여 유기 발광층의 상부와 하부에 각각 전자 전달층, 정공 전달층, 정공 주입층 등을 적층한 구조이다. 본 발명은 OLED 전극의 제조법에 관한 것이다.

○ OLED 전극의 형성을 위해 투명기판위에 초기에 형성되는 개시층은 주로 ITO(indium tin oxide) 등이 사용하며 두께는 대략 80~250㎚ 수준의 매우 얇은 박막형태를 적용한다. 픽셀전극의 형성을 위해서는 보통 리소그라피 에칭기술이 적용되기 때문에 픽셀전극의 예리한 모서리에서 발생되는 전기장 세기의 불균일로 인한 디바이스의 문제점 등이 지적되고 있다.

○ 본 발명은 균일한 전도성 구조층의 형성을 위해 개시층의 일부를 제거하거나 삭마하는 종래의 공정과 달리 전도성 물질의 선택된 영역을 전기적인 절연물질로 변화 시킬 수 있는 새로운 공법을 소개하고 있다. 즉, 선택적인 영역에서 전도성 물질의 화학조성 또는 결정구조를 변경하여 구현된 전도성 구조층은 표면이 매끄럽고 개시층과 동일한 형태와 크기를 그대로 유지할 수 있다.

○ 본 발명에서는 레이저 광을 이용하여 전도성 물질의 선택적인 영역을 고감도로 조사(irrating)하거나 가열하는 방식을 사용하였고 도판트로 산소를 도입하여 전기적인 물성변화를 쉽게 유도할 수 있도록 하여 용이한 공정 적용성도 함께 설명하고 있다.

○ ITO 전극 분야에 관한 기술은 OLED의 발광효율과 대면적 디스플레이의 품질에 직접 관련되기 때문에 국내의 OLED 기술의 발전 추세에 맞추어 이 분야에 대한 연구가 더욱 활발히 진행될 필요가 크다. 대면적의 디스플레이 적용 및 향후 신성장 산업으로 진보하고 있는 OLED 조명분야의 국내업체들의 향후 활약이 특히 기대되고 있다.

저자

KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.

자료유형

특허정보

원문언어

영어

기업산업분류

화학·화공

연도

2011

권(호)

WO20110007297

잡지명

PCT특허

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

~16

분석자

나*록

분석물

• 투명 전도성 구조층 제조법.pdf [360,972 byte]

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