나노임프린트 공정용 열가소성 수지

전문가 제언

○ 최근 들어 나노임프린트 공정 기술이 차세대 리소그래피(Lithography) 공정의 하나로 인식되면서 이 기술을 이용한 나노 패턴의 제작과 활용에 대해서 국내외 대학 및 연구소에서 많은 관심을 가지고 연구결과들을 발표하고 있다. 나노임프린트는 크게 보면, 열을 이용한 열 엠보싱(Hot Embossing) 기술과 UV를 이용한 UV 나노임프린트 리소그래피로 나눌 수 있다. 전자의 경우 공정이 쉽고 장비 가격이 저렴한 장점이 있는 반면에 공정시간이 길거나 고압이 필요한 단점이 있다.

○ 나노임프린트 리소그래피(Nanoimprint Lithography) 기술은 경제적이고도 효과적으로 나노 구조물을 제작할 수 있는 기술로, 나노 구조물(Nanostructure)이 각인된 스탬프를 기재(Substrate) 위에 스핀 코팅(Spin Coating) 또는 디스펜싱(Dispensing)된 레지스트(Resist)의 표면에 눌러 나노 구조물을 전사하는 기술이다.

○ 나노임프린트 기술은 2003년 국제반도체 기술 로드맵(ITRS : International Technology Road map for Semiconductors)에 신기술로 추가되었다. 이는 극자외선 리소그래피(EUV : Extreme Ultraviolet Lithography), 마스크 없는 리소그래피(ML2 : Mask-less Lithography)와 더불어 차세대 리소그래피로서의 가능성을 인정받게 되었다.

○ 차세대 가공 기술의 하나인 나노임프린트 프로세스를 실용화하기 위해서는 전사 정밀도를 실현할 수 있는 장치 기술, 고정밀도의 금형 기술, 수지재료 개발 기술, 용도에 적합한 기능을 실현할 수 있는 공정 기술, 각종 계측, 분석 기술과 같은 여러 방면의 기술개발이 필요하다. 관련 재료 분야에서도 시장성장이 기대되는데 나노임프린트용 열가소성 수지 재료 분야에 관해서는 같은 어플리케이션이라 하더라도 장치, 프로세스에 대응한 고객 맞춤형(Customizing)이 필요하여 가격이 고정화될 수 없는 등 구체적인 시장규모 예측이 현재로서는 어려운 것이 현실이다.

저자

Yoshiaki TAKAYA

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

정밀기계

연도

2010

권(호)

76(2)

잡지명

精密工學會誌

과학기술
표준분류

정밀기계

페이지

156~160

분석자

심*일

분석물

• 나노임프린트 공정용 열가소성 수지.pdf [377,285 byte]

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