나노임프린트 기술의 미래 전망

전문가 제언

○ 인텔사의 Gordon Moore는 마이크로 칩에 저장할 수 있는 데이터의 용량이 18개월마다 2배씩 증가한다는 ‘무어의 법칙’을 제시 하였고, 삼성의 황창규는 1년마다 2배씩 증가한다는 ‘황의 법칙’을 주창하였다. 이는 반도체 칩의 패턴 선폭을 얼마나 가늘게 하여 주느냐하는 기술에 좌우되는 것으로 이러한 연구개발 노력의 결과는 32nm까지 가능한 나노임프린트 시대에 도달하게 되었다.

○ 나노임프린트 공정은 크게 열에 의한 공정과 UV 조사로 인한 경화를 통한 패턴 전사 방식이 대표적이다. 나노임프린트 공정을 실시하기 위해서는 요구되어지는 패턴이 표면에서 돌출되어 있는 스탬프가 필요하다. 나노 사이즈의 패턴이 양각되어 있는 스탬프를 제작하기 위해서는 일반적으로 전자빔 리소그래피(Electron Beam Lithography)와 건식 에칭을 통해서 만들어진다.

○ 나노임프린트 기술은 국제반도체기술로드맵(ITRS: International Technology Road map for Semiconductors)에 32nm 이하의 선폭을 실현하는 새로운 리소그래피 공정으로 소개되고 있다. 그러나 산업체에서 적용을 하기 위해서는 해결해야 될 과제들이 있다. 우선 공정 및 장비의 개선이 필요하다. 현재 국내 대학의 많은 연구실에서도 이 공정을 이용한 디바이스 제작을 하고 있으며, 산업체에서는 실제로 생산 라인에 투입하기 위한 장비 개발 및 개선 프로젝트 팀들을 운영하고 있다.

○ 나노임프린트는 나노 사이즈의 디바이스를 쉽고 경제적으로 만들 수 있다는 장점이 있다. 이러한 점에서 장차 장비의 수요가 늘어날 것으로 예상이 된다. Austria의 EVGroup, USA의 Nanonex, Molecular Imprint, Germany의 Suss Microtech, 일본의 Hitachi 그리고 한국의 NND(Nano and Device) 등 세계적인 반도체 장비업체가 나노임프린트 장비 개발에 열심히 노력하고 있어 많은 성과가 기대 된다.

저자

Shinji MATSUI

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

정밀기계

연도

2010

권(호)

76(22)

잡지명

精密工學會誌

과학기술
표준분류

정밀기계

페이지

137~142

분석자

심*일

분석물

• 나노임프린트 기술의 미래 전망.pdf [387,256 byte]

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