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금속-절연물 동시 전해석출에 의한 입상박막의 제조

전문가 제언: ○ 습식도금방법으로 ㎚초미립자 금속-산화물계 입상형태의 복합박막을 석출시키는 연구가 추진되고 있다. 이 복합박막은 ㎓대에서 초기투자율이 크고, 높은 저항률을 갖는 연질자기디스크나 전자파흡수용으로 사용된다. 종래의 진공증착이나 수용액화학반응으로는 균일석출이 어려운 절연성 초미립자 산화물이나 고분자를 균일하게 석출시키는 표면처리기술로서 가수분해나 환원첨가제, 전기분해에 의한 산화환원반응의 원리를 응용하였다.

○ 음극에 자성복합도금 막을 석출시키는데 종래의 펄스전해에서는 양극금속의 용해가 발생하는 문제점이 있었다. 이 문제점을 해결하기 위하여 질산-아질산환원반응과 용존산소의 환원반응에 의한 수산기로써 수용성수지를 가수분해하고 환원첨가제를 사용하여 10㎚ 범위의 금속-절연물인 입상자성 박막을 제조하였다. 또 Co-Ce-O박막, Fe-Ce-O박막, Co-epoxy박막과 내식용 Ni-Ce-O, Ni-TiO2, Ni-ZrO2-Y2O3 등 금속-산화물의 복합박막도 저온의 도금방법으로 제조하고 있는 것으로 알려졌다.

○ 국내에서는 현재 건식법에 의한 Co-Fe-Ag나노입상합금박막의 자기저항과 보자력에 미치는 효과에 관한 연구가 추진 중에 있다. 또 나노복합 산화물을 석출시키기 위하여 종래부터 진공증착, 이온도금 등의 건식법이 주류를 이루고 있는 것으로 조사되었다. 앞으로 凹凸이나 곡면, 연료튜브내부 등 복잡형상의 금속이나 플라스틱, 수지 등 비금속에는 무전해 도금이나 전기도금으로 균일두께의 복합박막을 제조하는 편이 생산설비와 재료의 코스트절감과 생산성, 품질향상에 효과적이라 사료된다.

저자: Naoyuki FUJITA
자료유형: 학술정보